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Open AccessDissertation10.47749/t/unicamp.2002.245369

Oxidação seletiva de n-butano em catalisadores VPO-SiO2-MgO para obtenção de anidrido maleico

TL;DRAbstract

Catalisadores de oxidos de vanadio e fosforo, VPO, foram utilizados na reacao de oxidacao seletiva do n-butano em anidrido maleico. Oxidos de vanadio e fosforo foram depositados sobre silica pura - porosa e amorfa - e sobre oxidos mistos de silicio e magnesio, de forma a estudar a influencia de sitios acidos e basicos na reacao de oxidacao seletiva de butano. Os oxidos mistos foram preparados pela adicao continua de NH4OH com razoes Mg:Si de 1:0,4:1, 1:1, 1:4 e 1: 8 por precipitacao de uma suspensao de silica amorfa em uma solucao de nitrato de magnesio. A fase ativa foi adicionada pelo metodo de impregnacao incipiente, com uma solucao de metavanadato de amonia e acido oxalico, nas percentagens massicas de pentoxido de vanadio de quatro e oito porcento em massa. Os solidos foram caracterizados por diftacao de raio-X, adsorcao de N2 a 77 K, quimissorcao de O2 e microscopia eletronica de varredura. A reacao de oxidacao foi realizada a 725 K em um sistema continuo a pressao ambiente com u

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Catalisadores de oxidos de vanadio e fosforo, VPO, foram utilizados na reacao de oxidacao seletiva do n-butano em anidrido maleico. Oxidos de vanadio e fosforo foram depositados sobre silica pura - porosa e amorfa - e sobre oxidos mistos de silicio e magnesio, de forma a estudar a influencia de sitios acidos e basicos na reacao de oxidacao seletiva de butano. Os oxidos mistos foram preparados pela adicao continua de NH4OH com razoes Mg:Si de 1:0,4:1, 1:1, 1:4 e 1: 8 por precipitacao de uma suspensao de silica amorfa em uma solucao de nitrato de magnesio. A fase ativa foi adicionada pelo metodo de impregnacao incipiente, com uma solucao de metavanadato de amonia e acido oxalico, nas percentagens massicas de pentoxido de vanadio de quatro e oito porcento em massa. Os solidos foram caracterizados por diftacao de raio-X, adsorcao de N2 a 77 K, quimissorcao de O2 e microscopia eletronica de varredura. A reacao de oxidacao foi realizada a 725 K em um sistema continuo a pressao ambiente com u

Keywords

ChemistryNuclear chemistry

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