Amorphous silicon for the application in integrated optics

TL;DRAbstract

Neue Anwendungsgebiete für amorphes Silizium in der integrierten Optik werden entwickelt. Zunächst wird der Einfluss der Methode der Abscheidung sowie der Prozessparameter auf die Materialeigenschaften untersucht. Die Auswirkungen einer thermischen Nachbehandlung werden analysiert. Verlustarme, einmodige Wellenleiter werden hergestellt. Zudem wird Plasma-unterstützte Abscheidung aus der Gasphase genutzt, um dreidimensionale Taper mit Hilfe von Schattenmasken zu realisieren. Die Möglichkeit des Stapelns von Wellenleitern unter Anwendung eines Planarisierungsprozesses wird untersucht, und vertikales Koppeln zwischen den Wellenleitern wird simuliert, um Spezifikationen für die beteiligten Herstellungsprozesse abzuleiten. Darüberhinaus werden horizontal geschlitzte Wellenleiter hergestellt.

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