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Si（111）异质外延表面光滑H-GaN的制备和表征
Wang Shuai,刘文怡,梁庭,Yong Wang,Jun Liu,熊继军-2011-01-01-Acta Scientiarum Naturalium Universitatis Sunyatseni
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TL;DRAbstract
使用MOCVD工艺在单晶硅衬底（111）面上异质外延六方GaN。利用光学显微镜、原子力显微镜（AFM）、扫面电子显微镜（SEM）、X射线衍射（XRD）及Raman光谱仪等多种分析方法对薄膜样品的结构、形貌和光学性能进行表征和分析。测试结果表明：得到的晶体为六方纤锌矿结构,主要晶面为（0002）,且异质外延的GaN晶体质量良好,定向性好,表面光滑无裂缝。外延膜GaN中E2（高支）声子模和A1（LO）声子模的拉曼峰相对于弛豫状态时发生了红移,说明GaN受到了张应力;而Si的AO声子模的拉曼峰相对于本征频率发生了蓝移,说明Si受到了压应力。
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使用MOCVD工艺在单晶硅衬底（111）面上异质外延六方GaN。利用光学显微镜、原子力显微镜（AFM）、扫面电子显微镜（SEM）、X射线衍射（XRD）及Raman光谱仪等多种分析方法对薄膜样品的结构、形貌和光学性能进行表征和分析。测试结果表明：得到的晶体为六方纤锌矿结构,主要晶面为（0002）,且异质外延的GaN晶体质量良好,定向性好,表面光滑无裂缝。外延膜GaN中E2（高支）声子模和A1（LO）声子模的拉曼峰相对于弛豫状态时发生了红移,说明GaN受到了张应力;而Si的AO声子模的拉曼峰相对于本征频率发生了蓝移,说明Si受到了压应力。
Keywords
Materials scienceOptoelectronicsEnvironmental science
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